單腔批次式磁控濺鍍設備

產品分類：真空設備, 真空連續式濺鍍系統

電漿清潔製程與鍍膜製程結合,雙製程合併架構.
可規劃立式滾桶鍍膜/水平滾桶鍍膜之單/雙面鍍膜架構.
前置作業區由人員取放片與CIM全廠規劃.
可採開腔門或垂直平躺靶源,方便設備保養維護.
客制化鍍膜有效區與規格架構,滿足產業製程需求.

金屬濺鍍製程 / 反應式濺鍍製程 / 氧化物鍍膜製程
主被動組件鍍膜等產業.

卷對卷RTR濺鍍設備

電漿清潔設備

連續式磁控濺鍍設備-垂直(傾斜)鍍膜型

光學即時產品監控系統