批次量产型ALD – PE model 开发成功, 6inch wafer卡匣式多片之沉膜率约为1.32Å/cycle,已接近1.6Å/cycle ,
长膜之不均匀性已达 3%~5%内,符合业界量产规格需求,制程满足目标: 阻水氧保护层 & 大曲面Lens AR Layer.
本网站使用Cookies以便提供更优质的使用体验,若您点选下方「我同意」或继续浏览本网站,即表示您同意我们的Cookies政策,欲了解更多资讯请见 隐私权政策
了解最新隐私权声明