批次ALD(原子层)镀膜设备

批次ALD(原子层)镀膜设备

  • 平面单片/卡夹多片之LOAD-LOCK CST IN/OUT 高产量制程设备.
  • 加热与电浆化学气相沈积双镀膜方案,可获得高均匀性与保型性的超薄薄膜.
  • 100% 保型,精确的厚度控制,优良的均匀性规格.
  • PE MODEL 适合制程温度低
  • 可运用于迭层或复合层膜层设计
  • 金属ALD制程 / 氧化物ALD制程 / 氮化物ALD制程
  • LENS AR光学镀膜 / MINI LED / MICRO LED等产业.