批次量產型ALD – PE model 開發成功, 6inch wafer卡匣式多片之沉膜率約為1.32Å/cycle,已接近1.6Å/cycle ,

長膜之不均勻性已達 3%~5%內,符合業界量產規格需求,製程滿足目標: 阻水氧保護層 & 大曲面Lens  AR Layer.