光學枚葉式濺鍍設備

枚葉式濺鍍鍍膜設備

  • 適合於半導體WAFER 光學製程產業, 搭配EFEM / LOAD PORT執行自動鍍膜無人工廠全自動生產方案
  • 金屬鍍膜+ICP 氧化/氮化之META 製程設計,提高鍍率,高產出量.
  • 可自動化上下片與CIM全廠規劃.
  • 前開腔門式空間大,方便設備保養維護.
  • 客制化鍍膜有效區與規格架構,滿足產業製程需求.
  • 金屬濺鍍製程 / 氧化物濺鍍製程 / META PROCESS
  • 半導體光學鍍膜 / 光學FILTER鍍膜 / 漾色鍍膜等產業.