電漿離子源蒸鍍設備

產品分類：真空蒸鍍系統, 真空設備

機台適合學研界及產業界使用
晶片尺寸為2~8吋晶片使用
鍍膜速度快
附著性, 緻密性優
構造簡單, 維修方便
用加熱絲方式進行加熱,不同模組進行控溫

LED ITO 透明導電膜製程
OLED 透明導電膜製程/ 氧化物多層膜製程
學研界研究機台

光學即時產品監控系統

水平連續式濺鍍設備

電子束蒸鍍設備

連續式磁控濺鍍設備-垂直(傾斜)鍍膜型